OIS-Four型RF離子源 2007-09-20

?OIS-Four是本公司自行研制開發(fā)的最適合IAD蒸鍍的小型高性能的射頻(RF)離子源。

的小口徑柵網(wǎng)，優(yōu)良的離子電流密度均勻性設(shè)計(jì)，使其成為本公司OTFC-600型及OTFC-900型光學(xué)鍍膜機(jī)所最適配的離子源。

OIS-Four型RF離子源適用于各種光學(xué)濾光片的試制與生產(chǎn),及其他領(lǐng)域的研究開發(fā)等用途,也可以用于高效率真空鍍膜過程中基板的離子洗凈。

該產(chǎn)品也可適用于客戶現(xiàn)有鍍膜機(jī)的離子源追加改裝。