離子源

OIS-GL

OIS-GL是一種用于基板清洗和離子輔助而開發(fā)的低電壓大電流無柵網(wǎng)式離子源。 配備于Gener-1300及OTFC系列鍍膜機(jī)，可生產(chǎn)各種光學(xué)濾光片。

特征
適用于基板清洗或塑料基板的鍍膜
低能量、高電流，照射面積可達(dá)到φ 1200mm 以上
設(shè)計(jì)的冷卻方式，大大提高了穩(wěn)定性
規(guī)格
型號(hào) OIS-GL
尺寸 φ163mm × 200mm (H)
放電電壓 50V - 300V
放電電流(max) 8A
氣體流量 5sccm - 50sccm（氬氣）10sccm - 100sccm（氬氣）
使用壓力 3.5 × 10-2 Pa 以下
水冷方式 Anode and beam unit
中和器 Tungsten (W) filament